對位平臺最早是源自于德國,采用的方式是用pin針撥動有著磁力開關的frame,讓上方不動的玻璃得以和下方的框架結合，到了日本國家，則被改為以電的三向UVW來命名的UVW平臺,然后以此為藍本,工程師再將其縮小,并大大的降低了高度,組合出了現在常看到的XXY形式的對位平臺。原始的磁力開關也進化到以導軌甚或交叉導軌組裝的單體模組,以及由三軸電機甚或四軸電機帶動的高精度對位平臺。
所以對位平臺也被稱之為UVW對位平臺，也被叫成XXY對位平臺，視覺對位系統里應用比較廣泛，公司在售的對位平臺涵蓋150mm、160mm、180mm、200mm、250mm、350mm、450mm、550mm，更大尺寸可定制化。凱福科技對位平臺采有超薄型,輕量化平臺-Mini模塊化結構設計，實現無中座的薄且輕的機構，透過特殊交叉滾柱軸承施加預壓，達高剛性,高精度表現。可作為光學式檢查裝置或導通測試器使用，在各運動軌道加入潤滑系統，提高對位平臺使用的壽命及精度。材料皆經超深冷處理，有效預防變型，大幅提升使用壽命,質量及效能，實行三次元全檢，保證出廠精度與質量。
對位平臺應用方法有：
1.XXYY對位平臺:顧名思義就是二個X軸向電動模組,以及二個Y軸向電動模組組成的XXYY對位平臺,精度,對位速度,機體的剛性都是各種產品中最高,制造難度也最大的。
2.XXY對位平臺:就是二個X軸向電動模組,以及一個Y軸向模電動組加上一個自由軸模組組成的XXY對位平臺,他可以利用個軸模組內加裝的轉盤,在XXY軸同動時產生出θ角的微量旋轉，精度相當的高。
3.UVW對位平臺:就是以兩組X電動模組,一組Y向的電動模組,疊加起來,在上方安置一個電動旋轉機構,成為一個UVW對位平臺,精度一般。
4.XYθ對位平臺:就是以一組X,一組Y向的模組,疊加起來,在上方安置一個旋轉機構,成為一個XYθ對位平臺,一般精度比較低。
